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저널정보
대한전기학회 정보 및 제어 논문집 2006 정보 및 제어 심포지엄 논문집
발행연도
2006.4
수록면
96 - 98 (3page)

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A new ex-situ model to diagnose a plasma processing equipment was presented. The model was constructed by combining wavelet, scanning electron microscope, ex-situ measurement of etching profile, and neural network. The diagnosis technique was applied to a tungsten etching process, conducted in a SF? helicon plasma. The wavelet ... 전체 초록 보기
#Plasma diagnosis #Profile #Wavelet #Neural Network #Scanning Electron Microscope

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험
3. 진단 모델 성능
4. 결론
감사의 글
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