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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2006.4
- 수록면
- 132 - 134 (3page)
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To improve equipment throughput and device yield, a malfunction in plasma equipment should be accurately diagnosed, A recognition model for plasma diagnosis was constructed by applying neural network to scanning electron microscope (SEM) image of plasma-etched patterns, The experimental data were collected from a plasma etching of tungsten thin films. Faults in plasma were generated by simulating a variation in process parameters. Feature vectors were obtained by applying ... 전체 초록 보기
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험 데이터
3. SEM 프로파일 특징 추출
4. 인식모델의 평가
5. 결론
감사의 글
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