반응성 이온 건식식각에 의해 형성된 실리콘 표면 잔류막의 특성연구 ( Charaterization of Si-Surface Residues Caused by Reactive Ion Etching )

이수민 ,  권광호 ,  이종석 외 6명

대한전자공학회 학술대회

1991 .07

반응성 이온 건식식각에 의해 형성된 실리콘 표면 잔류막의 특성연구

이수민 ,  권광호 ,  이종석 외 6명

대한전자공학회 학술대회

1991 .06

Effect of $O_2$ or $NF_3$ plasma treatments on contaminated silicon surface due to $CHF_{3}/C_{2}F_{6}$ reactive ion etching

박형호 ,  권광호 ,  곽병화 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

Ti-(42, 44)%Al 합금의 고온내산화성에 미치는 Nb, V 및 Cr의 영향

이영찬 ,  김미현 ,  김성훈 외 3명

한국재료학회지

1999 .01

표면개질 후 세포 배양된 Ti-6Al-4V 합금의 표면 특성

김선욱 ,  최한철 ,  고영무 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2005 .05

Al합금 A5056의 표면거칠기 특성에 관한 연구

김찬영

한국기계가공학회 춘추계학술대회 논문집

2019 .04

표면처리된 Al 5083-H131 합금의 고속 충격 거동에 관한 연구

손세원 ,  김희재 ,  홍성희 외 1명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2001 .10

반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구

윤창식 ,  이종근 ,  김택수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1995 .12

반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구 ( A Study on Pt Etch by Oxygen Plasma in Reactive Ion Etcher )

윤창식 ,  이종근 ,  김택수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1995 .11

강판 표면 고속 식각용 선형 이온 소스 개발

김도근 ,  이승훈 ,  김종국

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2010 .11

RIE(Reactive Ion Etching) 처리된 다결정 웨이퍼의 DRE(Damage Removal Etching) 처리에 따른 패시베이션 특성 분석

김무중 ,  박성은 ,  강민구 외 3명

한국태양에너지학회 학술대회논문집

2019 .04

유도결합형 BCl3/Ar 플라즈마를 이용한 Al2O3 박막의 식각 특성

김용근 ,  권광호

전기전자재료학회논문지

2011 .01

Al 합금의 응고 (I)

김지훈 ,  예병준

한국주조공학회지 (주조)

1998 .01

Characteristics of contaminated silicon surface due to CHF3/C2F6 reactive ion etching and Post etch treatments for removal of surface residue

박형호 ,  권광호 ,  곽병화 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

가스 클러스터 이온 빔에 의한 고체표면 식각에 관한 연구

송재훈 ,  최원국 ,  최덕균

한국재료학회 학술발표대회

2002 .01

할로겐 가스 기반의 반응성 이온 식각을 이용한 PRAM 재료 식각 연구

김두산 ,  박진우 ,  이원오 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2018 .11

Plasma and Reactive Ion Etching

전영진

대한전자공학회 단기강좌

1983 .01

LASER합금화법에 의한 Al합금의 표면경화 ( Surface Hardening of Al alloy by means of LASER Alloying )

황종현 ,  문정훈 ,  서창제

대한용접학회 특별강연 및 학술발표대회 개요집

1992 .01

내마모성 향상을 위한 A319 표면에 Al-36%Si 합금분말의 레이저 표면 합금화

이형근

대한용접학회 특별강연 및 학술발표대회 개요집

2011 .11