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선형 이온 소스 적용을 통한 폴리머 소재의 표면구조 제어
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2016 .05
대면적 표면처리를 위한 양극층 선형 이온원 개발
한국생산제조학회 학술발표대회 논문집
2017 .12
Al 합금의 반응성 이온 식각후 표면 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1995 .11
염화제이철 수용액에 의한 스테인레스 강판의 식각에 관한 연구
화학공학
2012 .01
가스 클러스터 이온 빔에 의한 고체표면 식각에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
2002 .01
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
강판 전처리용 버켓이온원 개발
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2017 .11
반응성 이온 건식식각에 의해 형성된 실리콘 표면 잔류막의 특성연구 ( Charaterization of Si-Surface Residues Caused by Reactive Ion Etching )
대한전자공학회 학술대회
1991 .07
반응성 이온 건식식각에 의해 형성된 실리콘 표면 잔류막의 특성연구
대한전자공학회 학술대회
1991 .06
이온빔을 이용한 Black Phosphorus 식각 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2017 .11
RIE(Reactive Ion Etching) 처리된 다결정 웨이퍼의 DRE(Damage Removal Etching) 처리에 따른 패시베이션 특성 분석
한국태양에너지학회 학술대회논문집
2019 .04
반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1995 .12
반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구 ( A Study on Pt Etch by Oxygen Plasma in Reactive Ion Etcher )
대한전자공학회 학술대회
1995 .11
할로겐 가스 기반의 반응성 이온 식각을 이용한 PRAM 재료 식각 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2018 .11
실리콘 산화막의 플라즈마 식각에 대한 표면반응 모델링
화학공학
2006 .01
Characteristics of contaminated silicon surface due to CHF3/C2F6 reactive ion etching and Post etch treatments for removal of surface residue
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
고밀도 플라즈마 식각에 의한 CoTb과 CoZrNb 박막의 식각 특성
화학공학
2005 .01
박형 웨이퍼에 적용가능한 건식 및 습식 식각에 대한 연구
한국태양에너지학회 학술대회논문집
2018 .11
플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )
전자공학회논문지
1987 .01
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