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김동현 (홍익대학교) 김병국 (비아트론) 김형준 (비아트론) 정하승 (홍익대학교) 박승호 (홍익대학교)
저널정보
대한기계학회 대한기계학회 논문집 B권 대한기계학회논문집 B권 제36권 제10호
발행연도
2012.10
수록면
1,025 - 1,032 (8page)

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플래시 램프 열처리(Flash lamp annealing, FLA) 공정은 저온폴리실리콘의 생산을 위한 기술로써 대면적 기판용 실리콘 결정화 기술로 기대 받고 있는 기술이다. 본 연구에서는 FLA 공정 중 기판에 발생하는 변형의 원인에 대하여 이론적인 해석과 이를 토대로 시뮬레이션을 수행하였다. 상용 FEM 해석 프로그램에 고온에서의 유리의 점성에 대한 모델을 적용하여, 고온에서 유리의 구조적인 수축과 응력이완으로 인한 영구변형을 수치적으로 재현하였다. 0 세대 실험시편(2cm x 2cm)의 경우 중력의 영향이 미미하여서, 실험 결과와 일치하는 ‘U’모양의 변형이 남는 것을 확인하였고, 4 세대 기판(74cm x 94cm)의 경우 중력으로 인하여 ‘M’모양의 변형이 발생하는 것을 시뮬레이션하였다.
#Flash Lamp Crystallization(플래시 램프 결정화) #Amorphous Silicon on Glass(유리기판위 비정질 실리콘) #Large-Window Display(대면적 디스플레이) #Thermal Deformation(열변형)

목차

초록
Abstract
1. 서론
2. 온도장 해석
3. 기판 변형 해석
4. 결론
참고문헌

참고문헌 (19)

참고문헌 신청
Matsuda, A. / 1983 / Formation Kinetics and Control of Microcrystallite in μc-Si:H from Glow Discharge Plasma / J. Non-Cryst. Solids 59:767~774 google schola Lai, M. Z. / 2006 / Thermal Effects on LPCVD Amorphous Silicon / Thin Solid Films 504:145~147 google schola 김현재 / 199301 / Phase transformation mechanisms involved in excimer laser crystallization of amorphous silicon films / APPLIED PHYSICS LETTERS 63(14):1969~1971 google schola Yoon, S. Y. / 1997 / Low Temperature Metal Induced Crystallization of Amorphous Silicon Using a Ni Solution / J. App. Phys. 82:5865~5867 google schola Widenborg, P. I. / 2002 / Surface Morphology of Poly-Si Films Made by Aluminum- Induced Crystallisation on Glass Substrates / J. Cryst. Growth 242:270~282 google schola

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