지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2013.12
- 수록면
- 74 - 81 (8page)
이용수
초록· 키워드
오류제보하기
A numerical design analysis is conducted to search for an optimal shape of outlet in a rotating-disk CVD reactor. The goal is to suppress flow recirculation that has been found in a reactor having a sudden expansion of flow passage outside of the rotating disk. In order to streamline gas flow, the sidewall at which the flow in the Ekman layer is impinged, is tilted. The axisymmetric laminar flow and heat transfer in the reactor are simulated using the incompressible ideal gas model. For the conventional vertical sidewall, the flow recirculation forming in the corner region could be expanded into the interior to distort the upstream flow. The numerical results show that this unfavorable phenomenon inducing back flow could be dramatically suppressed by tilting the sidewall at a certain range of angle. The assessment of deviation in deposition rate based on the characteristic isotherm illustrates that the sidewall tilting may expand the domain of stable plug-like flow regime toward higher pressure. A physical interpretation is attempted to explain the mechanism to suppress flow recirculation.
목차
1. 서론
2. 해석 모델 및 방법
3. 해석 결과 및 토론
4. 결론
References
참고문헌 (1)
참고문헌 신청
이 논문의 저자 정보
이 논문과 함께 이용한 논문
다양한 디퓨저 형상의 유량 분배 특성에 관한 수치해석 연구
김명수
,
김후배
,
최형권
대한기계학회 논문집 B권
2014
.09
Thermal CVD 반응기 내부의 열 유동장에 대한 수치해석적 연구
김윤호
,
이영석
,
리광훈
대한기계학회 춘추학술대회
2004
.08
Thermal CVD 반응로 내부의 성장 온도 변화에 따른 기판 주위에서의 열ㆍ유동장에 대한 수치해석적 연구
김윤호
,
이영석
,
리광훈
대한설비공학회 학술발표대회논문집
2004
.06
LPCVD 공정중 웨이퍼의 온도장 해석 ( Thermal Analysis of the Wafers in LPCVD Process )
김일경
,
정민철
,
김우승
외 3명
대한기계학회 논문집 B권
1998
.05
LPCVD 공정중 웨이퍼의 온도장 해석 ( An Analysis of Temperature Field of Wafers in LPCVD Process )
김일경
,
정민철
,
김우승
외 3명
대한기계학회 춘추학술대회
1997
.01
최근 본 자료
댓글(0)
0
UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2015-420-001067911