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대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 학술발표회 논문집 (반도체/재료부품/CAD/VLSI) 제7권 1호
발행연도
1989.1
수록면
139 - 141 (3page)

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1990

FA-CVD에 의한 미세결정질 실리콘 박막 제작 및 특성 ( Characterization and Fabrication of Microcrystalline Si Thin Films Prepared by FA-CVD )
정창영 ,  정관수 ,  장진 전자공학회논문지 1990.09 학술저널

1989

FA-CVD에 의한 Si 박막 특성의 수소 희석 효과 ( Effect of Hydrogen Dilution on Characteristics of Thin Silicon Films Prepared by FA-CVD )
정창영 ,  정관수 ,  장진 대한전자공학회 학술대회 1989.01 학술대회자료

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