Magnetized inductively coupled plasma etching of GaN in Cl₂/BCl₃plasmas

Y.H. Lee ,  Y.J. Sung ,  G.Y. Yeom

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .10

Dry Etching Characteristics of Zinc Oxide Thin Films in Cl_2-Based Plasma

Jong-Chang Woo ,  Tae-Kyung Ha ,  Chen Li 외 5명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2011 .01

$Cl_2/O_2$ 유도결합형 플라즈마 특성 및 실리콘 식각에의 응용

김현수 ,  이주훈 ,  오경희 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

A Study on the High Temperature Platinum Etching

Hyoun Woo Kim ,  Byong Sun Ju ,  Beong Yoon Nam 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Effect of Process Parameters on Plasma Equipment in a Cl₂ Inductively Coupled Plasma

Sang Hee Kwon ,  Byung Whan Kim

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2019 .07

Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2018 .10

유도 결합형 Cl₂계 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성에 관한 연구

김현수 ,  이재원 ,  김태일 외 1명

한국표면공학회지

1999 .04

Studies on Highly Selective Oxide Etching using C2F6-CH3F Inductively Coupled Plasma Source

이원석 ,  정상섭 ,  강창진 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Etching Characteristics of Contact Holes with a Phase-Controlled Pulsed Inductively Coupled Plasma

신경섭 ,  강창진 ,  정철 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Inductively Coupled Plasma Etcher를 이용한 Pt 박막의 식각 ( Inductively Coupled Plasma Etching of Pt Thin Films )

이희습 ,  이종근 ,  정형섭 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1996 .07

Spatial and Temporal Radical Distribution in Inductively Coupled Plasma for SiO2 Etching

S. Hayashi ,  M. Yamanaka ,  M. Kubota 외 2명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

고진공에서의 Inductively Coupled Plasma 특성 진단

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2020 .07

Etching characteristics of Al-Nd alloy thin films using magnetized inductively coupled plasma

Y.J. Lee ,  H.R. Han ,  G.Y. Yeom

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .10

Dry Etching Characteristics of ZnO Thin Films for the Optoelectronic Device by Using Inductively Coupled Plasma

Young-Hee Joo ,  김창일 ,  우종창

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2012 .01

Cl/Ar 플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성

민수련 ,  이장우 ,  조한나 외 1명

공업화학

2007 .01

The Effect of Substrate Heating Technique for Selective Etching in Pulse-biased Inductively Coupled Plasma

Kyung Chae Yang ,  Min Hwan Jeon ,  Geun Young Yeom

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Plasma Properties of Dual-Frequency Inductively Coupled Plasma Source

이승민 ,  김경남 ,  김태형 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2014 .05

Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01

유도결합형 플라즈마를 이용한 Ta 식각 특성

이영식 ,  나선웅 ,  이내응 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2003 .05