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저자정보
김영수 (포항공과대학교) 이강승 (포항공과대학교) 홍윤기 (포항공과대학교) 정윤하 (포항공과대학교)
저널정보
대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 2006년도 추계학술대회 논문집Ⅱ
발행연도
2006.11
수록면
458 - 461 (4page)

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In this paper, High performance In<SUB>0.52</SUB>Al<SUB>0.48</SUB>As/In<SUB>0.53</SUB>Ga<SUB>0.47</SUB>As
metamorphic high electron mobility transistors (mHEMTs) on a GaAs substrate with the InP recess etch stop layer and zigzag-shaped T-gates are presented. A InP recess etch stop layer is introduced to control the gate recess depth. A zigzag gate foot is proposed to enhance mechanical support of T-gates. The fabricated 35 ㎚ In<SUB>0.52</SUB>Al<SUB>0.48</SUB>As/In<SUB>0.53</SUB>Ga<SUB>0.47</SUB>As metamorphic GaAs HEMTs show 896 ㎃/㎜ of a maximum drain current at V<SUB>DS</SUB>=1 V and 961 mS/㎜ of a maximum transconductance at V<SUB>GS</SUB> = -0.2 V, V<SUB>DS</SUB>=1 V. In addition, high performance RF characteristics have been achieved with a current gain cutoff frequency(f<SUB>γ</SUB>) of 400 ㎓, and a maximum oscillation frequency(f<SUB>max</SUB>) of 400 ㎓.

목차

Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 소자 제작
Ⅲ. 소자의 DC 및 RF 특성
Ⅳ. 결론
참고문헌

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