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대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 1991년도 하계종합학술대회 논문집 Vol14. No.1
발행연도
1991.6
수록면
291 - 294 (4page)

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이 논문의 연구 히스토리 (10)

1995

Al/TiN/Ti 전극의 Submicron contact에서의 전기적특성(2)
이철진 ,  엄문종 ,  라용춘 외 3명 대한전기학회 학술대회 논문집 1995.07 학술대회자료
AI/TiN/Ti 전극의 Submicron contact에서의 전기적특성(1)
이철진 ,  엄문종 ,  라용춘 외 2명 대한전기학회 학술대회 논문집 1995.07 학술대회자료

1994

급속열처리에 의한 TiN / TiSi2 이중구조막을 이용한 submicron contact 에서의 전기적 특성 ( The Electrical Properties of TiN / TiSi2 Bilayer Formed by Rapid Thermal Anneal at Submicron Contact )
이철진 ,  성만영 ,  성영권 전자공학회논문지-A 1994.09 학술저널
TiN/TiSi2 이중구조막의 submicron contact에서의 전기적 특성
이철진 ,  성만영 ,  성영권 대한전자공학회 학술대회 1994.07 학술대회자료
TiN / TiSi２ 이중구조막의 submicron contact에서의 전기적 특성 ( The electrical properties of TiN / TiSi２ bilayer formed by rapid thermal anneal at Submicron contact )
이철진 ,  성만영 ,  성영권 대한전자공학회 학술대회 1994.07 학술대회자료

1992

$NH_3$ 분위기에서의 RTA에 의한 TiN/$TiSi_2$ 경합반응에 관한 고찰
이철진 ,  박지순 ,  성영권 한국재료학회 학술발표대회 1992.01 학술대회자료
이단계 순간열처리에 위한 TiN / TiSiz 이중막의 특성 ( Properties of TiN / TiSi2 By layer by Two Step Rapid Thermel Anneal )
이철진 ,  성영권 대한전자공학회 학술대회 1992.01 학술대회자료

1991

Rapid Thermal Anneal 에 의한 TiN / TiSi2 구조 형성에 관한 연구 ( Ⅰ ) ( Characterization of TiN / TiSi2 Structure Formation by a Rapid Thermal Anneal ( Ⅰ ) )
이철진 ,  천영일 ,  박종호 외 2명 대한전자공학회 학술대회 1991.07 학술대회자료
RAPID THERMAL ANNEAL에 의한 TiN / TiSi₂구조 형성에 관한 연구(Ⅰ)
이철진 ,  천영일 ,  박종호 외 2명 대한전자공학회 학술대회 1991.06 학술대회자료

1990

RTA에 의한 BPSG막의 REFLOW특성 ( A Study on the Reflow Characteristics of BPSG Film by Rapid Thermal Anneal )
이철진 ,  성영권 ,  안용철 외 1명 대한전자공학회 학술대회 1990.01 학술대회자료

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목차

Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
참고문헌

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