전자빔 묘화를 이용한 초미세 패턴 식각 연구 ( A Study on the Submicron Etching With Electron-Beam Writing )

김명제 ,  황기웅

대한전자공학회 학술대회

1990 .11

전자빔을 이용한 미세형상 패턴성형용 S/W의 개발

강재훈 ,  송준엽 ,  이승우 외 1명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2004 .05

삼층감광막구조를 이용한 미세패턴의 전자빔 묘화 ( Submicron Patterning in Electron Beam Lithography using Trilayer Resist )

배용철 ,  서태원 ,  전국진

전자공학회논문지-A

1994 .10

스테퍼와의 혼합 묘화를 위한 전자 빔 직접 묘화 기술에 관한 연구 ( A Study of the Electron-beam Direct Writing Technique for Mix-and-Match with Stepper )

이상보 ,  유상기 ,  김여환 외 2명

전자공학회논문지-A

1992 .05

S-100기반 차세대 전자해도 뷰어 개발 연구

강동우 ,  오세웅 ,  정중식

한국지능시스템학회 학술발표 논문집

2016 .04

건식 식각에 의한 다결정 실리콘 초미세 패턴 형성에 관한 연구 ( A Study on the Dry Etching Characteristics of Ultra Fine Poly-Silicon Pattern )

도현호 ,  이석현 ,  황기웅

대한전자공학회 학술대회

1991 .11

건식 식각에 의한 다결정 실리콘 초미세 패턴 형성에 관한 연구

都眩昊 ,  李晳賢 ,  黃琪雄

전기학회논문지

1993 .12

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

레이저빔 직접묘화에 의한 반도체 가공 ( Semiconductor Processing by Laser Beam Direct Writing )

이지화

대한전자공학회 학술대회

1990 .01

블록공중합체와 비정질 탄소층을 이용한 초미세 패턴 식각에 관한 연구

김교운 ,  오지수 ,  염근영

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2019 .05

The Effect of Electron-Electron Scattering on the Electron Transport in Submicron Device

이명진 ,  도준회 ,  이형락 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

전자빔 가공을 위한 전자빔 광학 해석에 관한 연구

이응기

Journal of the Korean Society for Precision Engineering

2008 .03

레이저 직접묘화법(Laser Directing Writing)을 이용한 미세패턴 금속화 기술

박정호 ,  이제훈 ,  한유희

기계와 재료

1999 .01

고밀도 플라즈마를 이용한 contact hole 식각에서 공정 변수에 따른 식각 특성

김관하 ,  김창일

대한전기학회 학술대회 논문집

2006 .07

박형 웨이퍼에 적용가능한 건식 및 습식 식각에 대한 연구

박정은 ,  홍혜권 ,  조영호 외 2명

한국태양에너지학회 학술대회논문집

2018 .11

MEMS기반 에너지 하베스터 제작을 위한 실리콘 KOH 식각 모형화

민철홍 ,  김태선 ,  강경우

전기전자재료학회논문지

2012 .01

플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )

이진희 ,  박성호 ,  김말문 외 1명

전자공학회논문지

1987 .01

플라즈마 식각 방법에 의한 단결성 실리콘의 Two-Step 식각 특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-si by the Plasma Etching Technique )

이진희 ,  박성호 ,  남기수 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1985 .01

Low-angle forward-reflected 중성빔 식각장치를 이용한 Si 식각에 관한 연구

민경석 ,  박병재 ,  염근영

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2005 .11