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이 논문의 연구 히스토리 (3)
2016
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플라즈마 식각 공정에서 식각 종료점 검출은 중요한 요소이다. Optical Emission Spectroscopy (OES) 는 플라즈마 반응을 분석하는데 사용한다. 그리고 Plasma Impedance Monitoring (PIM) 은 플라즈마 공정 중에 RF power에 의한 voltage, current, power, impedance를 분석하는데 사용한다. 본 논문에서는 새로 제안하는 의사결정 알고리즘을 이용하여 single layer 산화막 플라즈마 식각에서 식각 종료점 검출의 성능을 향상시키는 것을 제안한다. 식각 종료점 검출의 정확도를 높이기 위해 OES 데이터와 PIM 데이터들을 의사결정 알고리즘에 모두 적용하여 사용한다. 제안된 방법은 SiOx 플라즈마 식각에서 식각 종료점을 정확하게 검출한다.
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[학술지(정기간행물)] - KIM, Seung-Gyun / 2012 / Endpoint Detection in Low Open Area Ratio Plasma Etching Using Hybrid Method / ECS Transactions 44 (1) : 1081 ~ 1086
[학술지(정기간행물)] - SHIN, Sung-Hwan / 2014 / Endpoint Detection for Single Layer Plasma Etch Using Hybrid Fuzzy Inference Systems / ECS Transactions 60 (1) : 875 ~ 880
[학위논문] - SMITH, Lindsay I. / 2002 / A tutorial on principal components analysis / Cornell University
[학술지(정기간행물)] - WHITE, David A. / 2000 / Low open-area endpoint detection using a PCA-based T 2 statistic and Q statistic on optical emission spectroscopy measurements / Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on 13 (2) : 193 ~ 207
[학술지(정기간행물)] - JEON, Sung-Ik / 2012 / Endpoint Detection Strategy in Bosch Process Using PCA and HMM / ECS Transactions 44 (1) : 1087 ~ 1091
[학술지(정기간행물)] - SHIN, Sung-Hwan / 2014 / Endpoint Detection for Single Layer Plasma Etch Using Hybrid Fuzzy Inference Systems / ECS Transactions 60 (1) : 875 ~ 880
[학위논문] - SMITH, Lindsay I. / 2002 / A tutorial on principal components analysis / Cornell University
[학술지(정기간행물)] - WHITE, David A. / 2000 / Low open-area endpoint detection using a PCA-based T 2 statistic and Q statistic on optical emission spectroscopy measurements / Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on 13 (2) : 193 ~ 207
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