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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2016.10
- 수록면
- 1,706 - 1,711 (6page)
이용수
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2018
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Electromagnetic wave simulation was performed to predict characteristics of manufactured cutoff probe at low temperature magnetized plasma medium. Microwave cutoff probe is designed for research the properties of magnetized inductively coupled plasma. It was shown that the cutoff probe method can safely be used for weakly magnetized high density plasma sources. Cutoff probe system with two port network analyzer has been prepared and applied to measure electron density distributions in large area, 13.56㎒ driven weakly magnetized inductively coupled plasma source. The results shown that, the plasma frequency confirmed cut-off characteristics in low temperature plasma. Especially, cut-off characteristics was found at upper hybrid resonance frequency in the environment of the magnetic field. In case of a induced weak magnetic field in inductively coupled plasma, plasma density estimated from the cutoff frequency in the same way at unmagnetized plasma due to nearly same plasma frequency and upper hybrid resonance frequency. The plasma density is increased and uniformity is improved by applying a induced weak magnetic field in inductively coupled plasma.
목차
Abstract
1. 서론
2. 본론
3. 결론
References
참고문헌 (6)
참고문헌 신청
[학술지(정기간행물)] - Chen-Fu Chien / 2007 / Economic Analysis of 450mm Wafer Migration / IEEE, Semiconductor Manufacturing : 1 ~ 4
[학술지(정기간행물)] - Isaac D Sudit / 1994 / / Plasma Sources Sci. Technol 3 : 162 ~
[학술지(정기간행물)] - Byung-Keun Na / 2012 / Computational characterization of cutoff probe system for the measurement of electron density / Phys. Plasmas 19 : 053504 ~
[학술지(정기간행물)] - K. H. You / 2013 / A cutoff probe for the measurement of high density plasma / Thin Solid Films 547 : 250 ~ 255
[학술지(정기간행물)] - Jung-Hyung Kim / 2005 / Analysis of the uncertainty in the measurement of electron densities in plasmas using the wave cutoff method / Metrologia 42 : 110 ~ 114
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