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저널정보
한국산학기술학회 한국산학기술학회 논문지 한국산학기술학회논문지 제5권 제3호
발행연도
2004.6
수록면
197 - 203 (7page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2004

나노미터 크기의 임의 형상을 제작하기 위한 새로운 리소그래피 기술
홍진수 ,  김창교 한국산학기술학회 논문지 2004.06 학술저널

2003

나노미터 크기의 임의형상을 제작하는 새로운 방법
홍진수 ,  박성훈 ,  이승섭 외 1명 한국진공학회 학술발표회초록집 2003.08 학술대회자료

초록· 키워드

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나노미터 크기의 임의형상 패턴을 새기기 위하여 노광기술이 사용된다. 광노광에서 자외선과 엑스레이 같은 전자기파가 나노미터 크기로 형상을 새긴 마스크 위에 조사되면 회절현상은 필연적으로 발생하며 마스크의 상이 불명확하게 웨이퍼 위에 맺히도록 한다. 볼록렌즈만이 프리어변환기 역할을 한다고 알려져 있으며 마스크 위에 패턴의 크기가 전자기파의 파장에 비교하여 매우 클 때에도 볼록렌즈를 사용하면 프리어변환시키는 것이 가능하다. 본 논문에서 설명하는 방법으로 마스크를 준비하여 렌즈 앞에 놓고 레이저 빔으로 조사하변 프리어 평면이라 알려진 평면 위에서만 나노미터 크기의 패턴이 형성된다. 이 방법은 매우 단순한 장치로 구성되어 있고, 현재 혹은 차세대 노광인 자외선/극자외선 및 전자투사노광으로 제작한 최소선폭과 비교해 볼 때 손색이 없다. 여기서는 프리어광학을 이용하여 이론적인 연구결괴를 보이고 있지만 가까운 장래에 실험결과로 이론적인 접근을 증명할 수 있을 것이다.
#lithography #convex lens #Fourier optics #UV/EUV photolithography

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