메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류

추천
검색
질문

논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
정영훈 (가천대학교) 조용범 (가천대학교) 강인만 (경북대학교) 조성재 (가천대학교)
저널정보
대한전자공학회 전자공학회논문지 전자공학회논문지 제54권 제12호(통권 제481호)
발행연도
2017.12
수록면
33 - 41 (9page)
DOI
10.5573/ieie.2017.54.12.33

이용수

표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색
질문

초록· 키워드

오류제보하기
본 논문에서는 Si 기반의 터널링 전계효과 트랜지스터(tunneling field-effect transistor, TFET)의 낮은 전류 구동 능력을 향상시키기 위해 소스 접합에 Si<SUB>1-x</SUB>Ge<SUB>x</SUB>을 적용한 이종접합 기반의 Si<SUB>1-x</SUB>Ge<SUB>x</SUB> 터널링 전계효과 트랜지스터의 성능을 분석하고 주어진 소자에서 나타날 수 있는 짧은 채널 효과(short-channel sffects)의 양상을 살펴본다. Ge 함량(x)의 변화에 따른 소스 접합물질의 에너지 밴드갭 변화와 에너지 자리 밀도(density of states)의 변화의 결과로 나타나는 켜진 상태 전류의 변화에 초점을 두어 분석을 수행하였다. 더불어, 향후 10 nm 이하 기술 노드(technology node)에서의 소자 적용 가능성을 확인함과 동시에 짧은 채널에서 나타나는 비이상적인 효과들을 살펴보기 위해 채널 길이(L<SUB>ch</SUB>)를 28 nm, 14 nm, 10 nm, 7 nm로 변화시키면서 시뮬레이션을 수행하였다. L<SUB>ch</SUB>이 짧아질수록 소스와 드레인 간의 전기장의 겹침으로 채널의 일부 영역에서 인해 펀치스루 (punch-through) 현상이 발행하여 TFET의 스위칭 특성이 열화되는 것을 확인하였다. 나아가, L<SUB>ch</SUB>의 변화에 따른 고속 동작특성 변화를 확인하기 위해 f<SUB>T</SUB> 및 f<SUB>max</SUB>를 추출하였으며 L<SUB>ch</SUB>가 짧아질수록 단조증가하는 경향을 확인하였다.

목차

요약
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 본론
Ⅳ. 결론
REFERENCES

참고문헌 (24)

참고문헌 신청

함께 읽어보면 좋을 논문

논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!

이 논문의 저자 정보

이 논문과 함께 이용한 논문

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0

UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2018-569-001676441