A Novel Positive Photoresists Based on Silicon-containing Methacrylate for 193 nm Lithography

김성수 ,  김일호 ,  김용렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .10

Advanced Chemically Amplified Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김일호 ,  김경철 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

A Novel 193 nm Photoresist Containing Silicon Compound

손민석 ,  강영종 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .04

Chemically amplified silicon-containing cycloaliphatic photoresists : their synthesis and application to 193-nm lithography

김진백 ,  이재준 ,  이관구

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

Silicon Containing Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

Young Dae Kim ,  Sang Jin Pa ,  k 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

A Trend of Advanced Lithography Development

한오석 ,  이희국 ,  최민성

대한전자공학회 워크샵

1991 .01

Chemically Amplified Silicon-containing Positive Photoresists for DUV Lithography

박상진 ,  이해원

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .10

Photoresist Technology

김진백

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Synthesis of a New Photoresists Containing Silicon for ArF Eximer Laser Lithography

이해원 ,  김성수 ,  최영만 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .10

The effect of water-contact and evaporation on the roughness of photoresist for immersion lithography

안성일 ,  김재현 ,  진왕철

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .04

The Novel Water Developable Photoresist for Deep UV Lithography

정민호 ,  김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .04

Quarter-Micron Lithography 개발 현황 및 향후 Advanced Lithography 기술 전개 방향

허훈

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Copolymers of methacrylates with cholic acid derivtives and anhydrides for 193-nm photoresists

고종성 ,  김경미 ,  이관구 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .04

Photodegradation of Poly ( Methyl Methacrylate - co - Dione Monooxime Methacrylate ) as Deep UV Photoresists

채규호 ,  황인동 ,  최민호

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1990 .04

Nanoshrinkable Photoresists for Next Generation Lithography

Jae-Hak Choi ,  Ramak ,  ishnan Ganesan 외 4명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .10

Photoresist for ArF Immersion Lithography, Applicable for the Reflow Process

Ji Young Song ,  Dong Chul Seo ,  Seung Duk Cho 외 8명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .10

Ellipsometry를 이용한 193 nm photoresist에서의 물의 흡수 연구

이형주 ,  이정환 ,  서주빈 외 2명

반도체및디스플레이장비학회지

2006 .01

Synthesis and Photodegradation of Poly ( methyl methacrylate - co -3- oximino -2- butanone methacrylate - co - t - butylbenzoyloxy - ethyl methacrylate ) as Deep UV Photoresists

채규호 ,  황인동 ,  박서호 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1987 .04

정보기능용 고분자 ( Photoresist )

김진백

고분자 과학과 기술

1990 .11

Chemically Amplified Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

김영대 ,  강영종 ,  이해원

대한전자공학회 학술대회

1998 .01