A Novel Positive Photoresists Based on Silicon-containing Methacrylate for 193 nm Lithography

김성수 ,  김일호 ,  김용렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .10

Advanced Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김경철 ,  김일호 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

Photoresist Technology

김진백

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Advanced Chemically Amplified Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김일호 ,  김경철 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

Chemically amplified silicon-containing cycloaliphatic photoresists : their synthesis and application to 193-nm lithography

김진백 ,  이재준 ,  이관구

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

정보기능용 고분자 ( Photoresist )

김진백

고분자 과학과 기술

1990 .11

PR(Photoresist) 분사량 측정에 관한 연구

신동원 ,  이성영 ,  김상식 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

High Resolution Bilayer Resists Using Blends of Photoresists and Silicon-Containing Materials

우승아 ,  김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2011 .04

Photoresists for Interface and Thin Layer Imaging Processes

김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2011 .04

Negative Thick Photoresist를 이용한 100㎛ 높이의 금속 구조물의 제작에 관한 연구

장현기 ,  김용권

대한전기학회 학술대회 논문집

1998 .07

Silicon Containing Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

Young Dae Kim ,  Sang Jin Pa ,  k 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Effects of Fluorine for Photoresist Properties

김진백 ,  김영우 ,  권영길 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2002 .10

Development of Novel Photoresist Removal Process using Multi-phase Plasma

Tatsuo Ishijima ,  Kouhei Nosaka ,  Yousuke Goto 외 5명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Photoresist을 이용한 Thin relief 위상형 홀로그램 격자에 관한 연구

신광용 ,  최도형 ,  김남 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1987 .07

Photoresist을 이용한 Thin relief 위상형 홀로그램 격자에 관한 연구 ( A Study on Thin Relief Phase Holographic Grating Using Photoresist )

신광용 ,  최도형 ,  김남 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1987 .07

Photolithography Process of Organic Thin Film with A New Water Soluble Photoresist

Kim ,  Kwang-Hyun ,  Song 외 1명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2004 .01

Molecular Resists Based on t-Butyl Cholate Derivatives for 193-nm Photoresists

김진백 ,  오태환 ,  권영길

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2002 .10

Nanoporous Templates with High Aspect Ratio Using Silicon-Containing Block Copolymers and Dual Responsive Photoresists

박창홍 ,  김진백 ,  구세진 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2011 .04

Chemically Amplified photoresists for 248 nm based on derivated phenolic resins

전현표 ,  김기대 ,  박주현 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

Chemically Amplified Silicon-containing Positive Photoresists for DUV Lithography

박상진 ,  이해원

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .10