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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 저널정보
- 한국진공학회 진공이야기 진공이야기 제5권 제4호
- 발행연도
- 2018.12
- 수록면
- 19 - 27 (9page)
- DOI
- 10.5757/vacmac.5.4.19
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In the semiconductor and display industries, plasma is widely used throughout the entire process including etching, deposition, and ion implantation. In recent years, as the device structure has become complicated (for example, 3D NAND Flash, 3D-DRAM, and Fin-FET), line widths have become extremely narrower. In this situation understanding the plasma property, precise processcontrol, and tool matching through plasma measurements or process monitoring is highly needed. Thus, this paper discusses plasma diagnostic technology that can be used in the semiconductor and display industries.
목차
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 플라즈마 진단 방법
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