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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2015.1
- 수록면
- 145 - 152 (8page)
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rf-PECVD 방법에 의해서 CH4+H2 혼합가스를 이용Si-웨이퍼 위에 DLC 박막을 증착할 때, 이산화탄소나 질소등 보조가스가 증착된 박막의 결합구조와 기계적 특성에 미치는 영향을 고찰하였다. DLC 박막의 증착속도는 rf-power가증가함에 따라서 증가하지만, 보조가스의 양이 증가함에 따라서는 감소하였다. 또한, 이산화탄소(CO2) 가스가 증가함에 따라 박막내 수소 함량은 감소하였으나, sp 3 /sp 2 결합 비는 증가하였다. 질소(N2) 가스가 증가하는 경우는 수소 함량은 감소하였으나, sp 3 /sp 2 결합비 변화에 있어 경향성은 보이지 않는 것으로 확인되었다.
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참고문헌 (24)
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A. Grill / 1987 / Inhomogeneous carbon bonding in hydrogenated amorphous carbon films / J. Appl. Phys 61 : 2874 ~
A. von Keudell / 1997 / Interaction of hydrogen plasmas with hydrocarbon films, investigated by infrared spectroscopy using an optical cavity substrate / J. Vac. Sci. Technol
B. Kim / 2000 / Comparison of a-C:H films deposited from methane-argon and acetylene-argon mixtures by electron cyclotron resonance-chemical vapor deposition discharges / Dia
D. Beeman / 1984 / Modeling studies of amorphous carbon / Phys. Rev B30 : 870 ~
D. F. Franceschini / 1992 / Internal stress reduction by nitrogen incorporation in hard amorphous carbon thin films / Appl. Phys. Lett 60 : 3229 ~
A. von Keudell / 1997 / Interaction of hydrogen plasmas with hydrocarbon films, investigated by infrared spectroscopy using an optical cavity substrate / J. Vac. Sci. Technol
B. Kim / 2000 / Comparison of a-C:H films deposited from methane-argon and acetylene-argon mixtures by electron cyclotron resonance-chemical vapor deposition discharges / Dia
D. Beeman / 1984 / Modeling studies of amorphous carbon / Phys. Rev B30 : 870 ~
D. F. Franceschini / 1992 / Internal stress reduction by nitrogen incorporation in hard amorphous carbon thin films / Appl. Phys. Lett 60 : 3229 ~
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