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논문 기본 정보

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저널정보
한국결정성장학회 한국결정성장학회지 한국결정성장학회지 제27권 제2호
발행연도
2017.1
수록면
75 - 79 (5page)

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고밀도 플라즈마 식각 및 lift-off 두 가지 공정으로 honeycomb 형상의 Ag-grid 투명전극층을 제작하였고 제조공법에 따른 광학적 및 전기적 특성을 비교하였다. 플라즈마 식각 조건 선정을 위하여 Ag 박막의 10CF4/5Ar 유도결합 플라즈마 식각특성을 조사하였다. 비교적 낮은 ICP source power 또는 rf chuck power 영역에서는 power 증가에 따라 Ag 식각속도가 증가하였고, 높은 power 조건에서는 Ar + 이온 에너지 감소 또는 Ar + 이온에 의한 F radical 제거로 인해 식각속도가 감소하였다. 10CF4/5Ar 플라즈마 식각 공정에 의해 제작된 Ag-grid 전극층은 lift-off 공정으로 제작된 전극층에 비해grid 패턴 형상의 왜곡이나 단절이 없는 더 우수한 grid 패턴 전사 효율과 가시광선 영역에서 더 높은 83.3 %(pixel 크기30 μm/선폭 5 μm)와 71 %(pixel 크기 26 μm/선폭 8 μm)의 광투과율을 각각 나타내었다. 반면에 lift-off 공정으로 제작된 Aggrid 전극층은 플라즈마 식각 공정 시편보다 더 우수한 2.163 Ω/□(pixel 크기 26 μm/선폭 8 μm)과 4.932 Ω/□(pixel 크기30 μm/선폭 5 μm)의 면저항 특성을 나타내었다.

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