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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제8권 제2호
발행연도
1999.5
수록면
172 - 179 (8page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

1999

헬리칼 공명 플라즈마에서 축 방향의 외부 자장이 기판상의 플라즈마 밀도에 미치는 영향
김태현 ,  태흥식 ,  이용현 외 3명 Applied Science and Convergence Technology 1999.05 학술저널

1997

헬리칼 공명 플라즈마의 기판플라즈마밀도에 미치는 축방향자계의 영향
김태현 ,  김문영 ,  장상훈 외 1명 대한전기학회 학술대회 논문집 1997.11 학술대회자료

초록· 키워드

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외부자장이 인가된 헬리칼 공명 플라즈마에서 플라즈마의 밀도의 축 방향 분포를 랑뮤어 프롭을 이용하여 측정하였다. 입사전력은 200 W로 고정하였고 압력은 0.4 mTorr에서 100 mTorr까지 변화하였다. 헬리칼 공명 플라즈마에 인가된 자장의 구조는 세 가지로 나누어진다. 즉 균일한 자장과 공정실의 기판을 중심으로 기판의 위쪽으로 기울기를 가지는 자장 그리고 공정실 방향 기울기를 가지는 자장으로 선택되었다. 세 종류의 자장구조에서 공정실 방향의 기울기를 가진 자장구조에서 가장 높은 플라즈마 밀도의 향상을 보였다. 헬리칼 공명 플라즈마의 플라즈마 밀도 분포는 전산모의 실험을 통해 구한 전자장의 분포와 일치하고 있으며 축 방향 자장이 인가될 때 전자장이 강한 반응실 영역은 플라즈마 분포에 큰 변화가 없으나 전자장의 영향이 작은 공정실 영역의 플라즈마 밀도는 크게 개선되었다. 인가된 자장은 플라즈마의 반경방향 균일도에 대한 영향을 피하기 위해 100 G이하의 약한 자기장에서 실험하였다.

목차

요약

Abstract

1. 서론

2. 이론

3. 실험장치 및 실험방법

4. 실험결과 및 고찰

5. 결론

감사의 글

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