기판 주변 반응 기체와 기판 사이의 온도 차이에 따른 r-면 사파이어 기판에 성장된 질화갈륨 나노 막대의 특성 변화 연구

신보아; 김진교

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자료유형: 학술저널

저자정보: 신보아 김진교

저널정보: 한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제18권 제1호

발행연도: 2009.1

수록면: 44 - 48 (5page)

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전기로에서 공급하는 열을 통해 주변 반응 기체와 기판이 열적 평형 상태를 이루고 있는 기존의 박막 성장 방식과 달리, 외부에서 주입시킨 공기를 이용하여 기판 홀더를 냉각시켜 기판과 기판 주변 반응 기체 사이에 온도 차이(temperature gradient)를 발생시키고, 그 온도 차이가 변함에 따라 사파이어 r-면 기판 위에 성장된 질화갈륨 나노 구조체의 구조적 특성이 어떻게 바뀌는지에 대한 연구를 수행하였다. 온도 차이의 크기에 따라 다족(multipod) 형태로 자란 나노 막대의 직경과 밀도, 그리고 길이가 변화함을 확인하였다. 또한, 동일한 온도 차이(temperature gradient)가 있더라도 기판 자체의 온도에 따라 나노막대 끝 단면의 모양이 변화됨을 발견하였다.

#질화갈륨 #나노 막대 #Hydride vapor phase epitaxy #비극성 #r-면 사파이어 #GaN #Nanorods #Nonpolar #R-plane sapphire

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1. [단행본] - P. Ruterana / 2003 / Nitride Semiconductors, Handbook on Materials, and Devices / Wiley-Vch Verlag GmbH & Co

2. [학술지(정기간행물)] - P. Waltereit / 2000 / / Nature 406 : 865 ~

3. [학술지(정기간행물)] - T. J. Baker / 2006 / / J. Appl. Phys 45 : L154 ~

4. [학술지(정기간행물)] - B. A. Haskell / 2003 / / Appl. Phys. Lett 83 : 644 ~

5. [학술지(정기간행물)] - N. Thillosen / 2006 / / Nano Lett 6 : 704 ~

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