Electrolyzed water cleaning for semiconductor manufacturing

Ryoo, Kun-Kul; Kim, Woo-Huk

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: Ryoo, Kun-Kul (Department of Advanced Materials Engineering Soonchunhyang University) Kim, Woo-Huk (Department of Advanced Materials Engineering Soonchunhyang University)

저널정보: 한국반도체디스플레이기술학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 한국반도체및디스플레이장비학회 2002년도 추계학술대회 발표 논문집

발행연도: 2002.1

수록면: 117 - 119 (3page)

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A semiconductor cleaning technology has been based upon RCA cleaning which consumes vast amounts of chemicals and ultra pure water. This technology hence gives rise to many environmental issues, and some alternatives such as electrolyzed water are being studied. In this work, intentionally contaminated Si wafers were cleaned using the electrolyzed water. The electrolyzed waters were obtained in anode and cathode with oxidation reduction potentials and pH of -1050mV and 4.8, and -750mV and 10.0, respectively. The electrolyzed water deterioration was correlated with $CO_2$ concentration changes dissolved from air. Overflowing of electrolyzed water during cleaning particles resulted in the same cleanness as could be obtained with RCA clean. The roughness of patterned wafer surfaces after EW clean maintained that of as-received wafers. RCA clean consumed about $9\ell$ chemicals, while electrolyzed water clean did only $400m\ell$ HCl or $600m\ell$ $NH_4$Cl to clean 8" wafers in this study. It was hence concluded that electrolyzed water cleaning technology would be very effective for releasing environment, safety, and health(ESH) issues in the next generation semiconductor manufacturing.ring.

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이 논문의 저자 정보

Ryoo, Kun-Kul

소속기관 Department of Advanced Materials Engineering Soonchunhyang University

주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전기공학

논문수 1 이용수 1

Kim, Woo-Huk

소속기관 Department of Advanced Materials Engineering Soonchunhyang University

주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전기공학

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