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KoPark, Sang-Hee (Transparent Display Team, ETRI) Cho, Doo-Hee (Transparent Display Team, ETRI) Hwang, Chi-Sun (Transparent Display Team, ETRI) Ryu, Min-Ki (Transparent Display Team, ETRI) Yang, Shin-Hyuk (Transparent Display Team, ETRI) Byun, Chun-Won (Transparent Display Team, ETRI) Yoon, Sung-Min (Transparent Display Team, ETRI) Cheong, Woo-Seok (Transparent Display Team, ETRI) Cho, Kyoung-Ik (Transparent Display Team, ETRI)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2009년도 9th International Meeting on Information Display
발행연도
2009.1
수록면
385 - 388 (4page)

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We have investigated the effect of the device structure on the performance of polycrystalline ZnO TFT and amorphous AZTO TFT with top gate and bottom gate structure. While the mobility of both TFTs showed relatively similar value in a top and bottom gate structure, bias stability was quite different depending on the device structure. Top gate TFT showed much less Vth shift under positive bias stress compared to that of bottom gate TFT. We attributed this different behavior to the defects formation on the gate insulator induced by energetic bombardment during the active layer deposition in a bottom gate TFT. We suggest the top gate oxide TFT would show more stable behavior under the Vgs bias.
#oxide TFT #ZnO #AZTO #device structure

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