지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
등록된 정보가 없습니다.
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
플라즈마 화학증착 법에 의한 질화탄화규소의 박막증착
한국에너지학회 학술발표회
2014 .11
SiHCl 와 O을 이용한 원자층 증착법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 특성
한국재료학회지
2004 .01
원자층 증착 방법에 의한 silicon oxide 박막 특성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
2003 .01
Remote PECVD 산화막의 증착특성 및 박막 특성 연구 ( A Study of Deposition Properties and Characteristics of SiO2 film Grown by Remote Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition )
전자공학회논문지-A
1992 .08
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposited Silicon Oxide Gas Barrier Coatings on Polymeric Substrate Films
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2008 .04
화학기상증착법으로 성장시킨 산화티타늄 박막의 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
2019 .07
Surface passivation of $BaMgAl_{10}O_{17}:Eu^{2+}$ coated with Silicon oxide by catalyzed atomic layer deposition
한국재료학회 학술발표대회
2007 .01
Optimization of Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposited SiO₂ film as an Etch Stop Layer for Oxide Semiconductor Thin-Film Transistors
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
HF Gas에 의한 Silicon Oxide층의 건식식각
대한기계학회 춘추학술대회
2011 .11
대기압 플라즈마를 이용하여 증착된 SiO₂ 무기 박막의 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2010 .05
플라즈마 화학증착한 aluminum oxide의 reactive ion etching 특성
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
Effects of N₂addition on chemical etching of silicon nitride layers in F₂/Ar/N₂remote plasma processing
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2007 .04
실리콘窒化膜의 氣相成長과 그 電氣的 特性
전기의세계
1979 .09
Thermal Analysis of a Silicon Wafer during Plasma Etching
Heat Transfer Conference
1998 .08
Microwave Plasma를 이용하여 증착한 diamond 박막의 증착변수에 따른 증착특성 연구
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
Co-sputtering 방법으로 증착된 실리콘 산화아연 박막의 특성 분석
대한전기학회 학술대회 논문집
2013 .07
Low Temperature Atomic Layer Deposition of Silicon Oxide Films Using Silicon Amide Precursors
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
DMEAA를 사용해 CVD법으로 증착한 알루미늄 박막의 증착속도에 관한 수소 효과
한국재료학회지
1998 .01
0