N2H2-H2O용액의 { 100 } Si에 대한 최적식각조건의 설정과 전기화학적 식각에의 응용 ( Establishment of Optimal { 100 } Si Etching Condition for N2H4-H2O Solutions and Application to Electrochemical Etching )

주병권 ,  이윤희 ,  김형곤 외 1명

전자공학회논문지

1989 .11

플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )

이진희 ,  박성호 ,  김말문 외 1명

전자공학회논문지

1987 .01

유도결합형 플라즈마를 이용한 백금 박막 식각 특성에 관한 연구

김현수 ,  장제욱 ,  염근영

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1998 .05

플라즈마 식각 방법에 의한 단결성 실리콘의 Two-Step 식각 특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-si by the Plasma Etching Technique )

이진희 ,  박성호 ,  남기수 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1985 .01

Pulse Biased Inductively Coupled Plasmas 를 이용한 Si 과 TiO₂ Nanostructure 식각 특성

신예지 ,  탁현우 ,  오지수 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2019 .05

실리콘 마이크로머시닝을 위한 자기 정렬 특성을 갖는 새로운 실리콘 식각방법과 식각특성분석

李熙德 ,  金載官 ,  鄭訓周 외 1명

전기학회논문지

1996 .10

Low-angle forward-reflected 중성빔 식각장치를 이용한 Si 식각에 관한 연구

민경석 ,  박병재 ,  염근영

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2005 .11

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

박형 웨이퍼에 적용가능한 건식 및 습식 식각에 대한 연구

박정은 ,  홍혜권 ,  조영호 외 2명

한국태양에너지학회 학술대회논문집

2018 .11

Cl/HBr/O 고밀도 플라즈마에서 비정질 실리콘 게이트 식각공정 특성

이원규

화학공학

2009 .01

유도 결합 플라즈마를 이용한 백금 박막의 식각시 O₂ 가스 첨가 효과

김남훈 ,  김창일 ,  권광호 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1998 .11

Bosch 공정에서 Si 식각속도와 식각프로파일에 대한 Ar 첨가의 영향

지정민 ,  조성운 ,  김창구

화학공학

2013 .01

GaN 박막의 ICP 식각후의 광특성

한윤봉 ,  최창선 ,  임연호 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

2000 .01

SF6, C₄F8, O₂ 가스 변화에 따른 실리콘 식각율과 식각 형태 개선

권순일 ,  양계준 ,  송우창 외 1명

전기전자재료학회논문지

2008 .01

SF₆/O₂ 플라즈마를 이용한 구리 표면 처리 후 표면 Corrosion 특성 연구

임노민 ,  이준명 ,  이재민 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2015 .11

MEMS기반 에너지 하베스터 제작을 위한 실리콘 KOH 식각 모형화

민철홍 ,  김태선 ,  강경우

전기전자재료학회논문지

2012 .01

고밀도 플라즈마를 이용한 contact hole 식각에서 공정 변수에 따른 식각 특성

김관하 ,  김창일

대한전기학회 학술대회 논문집

2006 .07

X-Rays From Laser-Produced Plasmas

남창희

대한전자공학회 워크샵

1991 .01