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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 1997.1
- 수록면
- 233 - 239 (7page)
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The effects of preheating the gas stream on deposition characteristics of ultrafine $SiO_2$ particles were investigated theoretically. The model equations such as mass and energy balance equations and aerosol dynamic equations were solved to predict the particle growth and deposition. The gas temperatures, $SiCl_4$ concentrations, $SiO_2$ particle volumes, $SiO_2$ particle sizes and deposition efficiencies of $SiO_2$ particles were calculated for various preheating temperatures. As the preheater setting temperature increases, the $SiO_2$ particle size distribution becomes more uniform, because the effect of $SiCl_4$ diffusion decreases.
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