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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
김연석 (홍익대학교 화학공학과) 전법주 (한국과학기술연구원 나노환경연구센터) 주재백 (홍익대학교 화학공학과) 손태원 (홍익대학교 화학공학과) 이중기 (한국과학기술연구원 나노환경연구센터)
저널정보
한국화학공학회 화학공학 화학공학 제43권 제1호
발행연도
2005.1
수록면
85 - 91 (7page)

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ECR-MOCVD를 이용한 상온조건에서 투명전도성 고분자막이$(CH_3)_4Sn-H_2-O_2$ 분위기하에 $SnO_2$막이 제조되었다. 제조된 투명전도막의 전기적특성은 공정압력, 전자석/분사링/기판사이의 거리, 전자석의 전류, 마이크로파 출력, 증착시간과 같은 공정변수에 따라 조사되었다. 마이크로파 출력과 전자석의 전류가 증가함에 따라 낮은 전기적 저항을 갖는 $SnO_2$막이 형성되었다. 또한 이들 공정변수들이 증착된 막의 광학적특성에 미치는 영향은 중요하게 나타났다. ECR-MOCVD에 의해 제조된 막의 투과도와 반사도는 380-780 nm의 가시광영역에서 각각 93-98%, 0.1-0.5%였다. 증착된 막의 평균 grain 크기는 공정변수에 관계없이 20-50 nm범위의 값으로 일정하였다. 본 연구의 최적화된 조건에서 전기적저항은 $7.5{\times}10^{-3}ohm{\cdot}cm$, 투과도 93%, 반사도 0.2%를 갖는 막이 얻어졌다.
#Tin Oxide #PET #ECR-MOCVD #Transmittance #Resistivity

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