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학술저널
저자정보
정찬회 (동아대학교 신소재공학과) 이준희 (동아대학교 신소재공학과) 신윤학 (충북대학교 재료공학과) 김명한 (충북대학교 재료공학과) 최석환 (한국생산기술연구원) 김승언 (한국기계연구원)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제16권 제4호
발행연도
2006.1
수록면
218 - 224 (7page)

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RF sputtering process was applied to produce thin hydroxyapatite(HAp) films on Ti-6Al-4V alloy substrates. The effects of different heat treatment conditions on the hardness between HAp thin films and Ti-6Al-4V alloy substrates were studied. Before deposition, the Ti-6Al-4V alloy substrates were heat treated for 1h at $850^{\circ}C\;under\;3.0{\times}10^{-3}torr$, and after deposition, the HAp thin films were heat treated for 1h at $400^{\circ}C,\;600^{\circ}C\;and\;800^{\circ}C$ under the atmosphere, and analyzed FESEM-EDX, FTIR, XRD, nano-indentor, micro-vickers hardness, respectively. Experimental results represented that the surface defects of thin films decreased by relaxation of internal stress and control of substrate structure followed by heat treatment of substrates before the deposition, and the HAp thin films on the heat-treated substrates had higher hardness than none heattreated substrates before the deposition, and the hardness properties of HAp thin films and Ti-6Al-4V alloy substrates appeared independent behavior, and the hardness of HAp thin films decreased by formation of $VTiO_3(OH),\;{\theta}-Al_{0.32}V_2O_5,\;Al_{0.33}V_2O_5$.
#Hydroxyapatite #Ti-6Al-4V Alloy #RF Sputtering #Heat Treatment

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