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학술저널
저자정보
남석우 (한국과학기술연구원[KIST] 에너지, 반응공정연구실, 서울 청량리우체국 사서함 131) 하호용 (한국과학기술연구원[KIST] 에너지, 반응공정연구실, 서울 청량리우체국 사서함 131) 홍성안 (한국과학기술연구원[KIST] 에너지, 반응공정연구실, 서울 청량리우체국 사서함 131)
저널정보
한국막학회 멤브레인 멤브레인 제2권 제1호
발행연도
1992.1
수록면
21 - 32 (12page)

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이 논문의 연구 히스토리 (3)

1996

솔-젤 및 화학증착법에 의하여 제조된 실리카막의 기체 투과 특성
남석우 ,  이희준 ,  하홍용 외 1명 한국막학회 총회 및 학술발표회 1996.01 학술대회자료

1992

화학증착(CVD)에 의한 선택적 수소 투과성 실리카막의 제조
남석우 ,  하호용 ,  홍성안 멤브레인 1992.01 학술저널
화학 증착(CVD)에 의한 선택적 수소 투과성 $SiO_2$ 무기막의 제조
남석우 ,  홍성안 한국막학회 총회 및 학술발표회 1992.01 학술대회자료

초록· 키워드

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화학증착법을 사용하여 다공성 Vycor 유리에 선택적 수소 투과성 실리카 막을 제조하였다. 화학증착에는 $SiCl_4$의 가수분해 반응이 이용되었으며, 반응물인 $SiCl_4$와 물을 서로 반대 방향으로 주입하여 막을 제조하는 opposing-reactants film deposition방법과, 반응물을 다공성 유리관의 한쪽으로만 공급하는 one-sided film deposition 방법을 모두 사용하였다. 제조된 실리카 막을 통한 수소의 투과도는 $600^{\circ}C$ 이상의 온도에서 $0.01-0.25cm^3(STP)/cm^2-min-atm$의 범위에 있었으며, 수소의 질소에 대한 투과도 비는 1000정도였고, 온도의 증가에 따라 실리카 막을 통한 수소 및 질소의 투과도는 증가하였다. Opposing reactants film deposition 방법으로 제조된 실리카 막은 비교적 안정성은 높으나 수소의 투과도가 낮은 반면, one-sided film deposition 방법을 사용하면 수소의 투과도는 높으나 안정성이 낮은 막이 얻어졌다. 이러한 실리카 막은 고온에서의 기체분리 및 분리막 반응기에 응용하기 위하여는 높은 선택적투과성 및 안정성이 요구되며 막 제조 조건 및 방법이 최적화되어야 함을 알 수 있었다.

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