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자료유형
학술저널
저자정보
황갑진 (한국에너지기술연구원 수소에너지연구센터) 박주식 (한국에너지기술연구원 수소에너지연구센터) 이상호 (한국에너지기술연구원 수소에너지연구센터) 최호상 (경일대학교 화학공학과)
저널정보
한국막학회 멤브레인 멤브레인 제14권 제3호
발행연도
2004.1
수록면
201 - 206 (6page)

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열화학적 IS 공정에서 요오드화수소의 분해에 적용하기 위하여 화학증착법(CVD)으로 제조된 silica 막의 안정성을 HI-$H_2O$ 기상 혼합물에서 평가하였다. Si 원천으로 tetraethoxysilane을 사용하여 서로 다른 CVD 온도로 기공크기가 100 nm인 $\alpha$-alumina를 처리하였다. CVD온도는 $700^{\circ}C$, $650^{\circ}C$, $600^{\circ}C$이었다. $600^{\circ}C$에서 수행한 단일 성분의 투과 실험에서 측정한 막의 $H_2$/$N_2$ 선택도는 CVD 온도 $700^{\circ}C$의 M1 막은 43.2, $650^{\circ}C$의 M2 막은 12.6, $600^{\circ}C$의 M3 막은 8.7을 나타내었다. HI-$H_2O$ 기상 혼합물에서 안정성 실험은 $450^{\circ}C$에서 수행하였는데, CVD 온도 $650^{\circ}C$에서 처리된 막이 다른 온도에서 처리된 막보다 더 안정성이 더 좋은 결과를 얻었다.
#inorganic membrane #Silica alumina membrane #Chemical vapor deposition #Gas separation #Hydrogen permselectivity

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