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자료유형
학술저널
저자정보
Chung, K.C. (Korea Institute of Materials Science) Jeong, T.J. (Korea Institute of Materials Science) Choi, G.C. (Korea Institute of Materials Science) Kim, Y.K. (Korea Institute of Materials Science) Wang, X.L. (Institute for Superconducting and Electronic Materials, Univ. of Wollongong) Dou, S.X. (Institute for Superconducting and Electronic Materials, Univ. of Wollongong)
저널정보
한국초전도학회 Progress in superconductivity Progress in superconductivity 제11권 제2호
발행연도
2010.1
수록면
100 - 105 (6page)

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Reel-to-reel deposition of $Y_2O_3$ has been performed on Ni-5%W metal substrates using the RF-sputtering method. The epitaxial orientation of $Y_2O_3$ buffer layers to the base bi-axially textured substrate was well identified using ${\theta}-2{\theta}$, out-of-plane ($\omega$), and in-plane ($\phi$) scans in X-ray diffraction analysis. The optimization of $Y_2O_3$ seed layers in reel-to-reel fashion were investigated varying the deposition temperature, sputtering power, and pressure for its significant roles for the following buffer stacks and superconducting layers. $Y_2O_3$ were all grown epitaxially on bi-axially textured metal substrates at 380 watts and 5 mTorr in the temperature range of $600-740^{\circ}C$ with higher $Y_2O_3$ (400) intensities at ${\sim}710^{\circ}C$. It was found that the $\Delta\omega$ values were $1-2^{\circ}$ lower but the $\Delta\phi$ values were above $1^{\circ}$ higher than that of Ni-W substrates. As the sputtering power increased from 340 to 380 watts, $\Delta\omega$ and $\Delta\phi$ values showed decreased tendency. Even in the small window of deposition pressure of 3-7 mTorr, the $Y_2O_3$ (400) intensities increased and $\Delta\omega$ and $\Delta\phi$ values were reduced as sputtering pressure increased.
#reel-to-reel rf-sputtering #$Y_2O_3$ buffer #metal substrate #epitaxy

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