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논문 기본 정보

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학술저널
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김동진 (동우열처리공업[주] 기술연구소) 신창현 (동우열처리공업[주] 기술연구소) 허정 (동우열처리공업[주] 기술연구소) 남태운 (한양대학교 금속재료공학과)
저널정보
한국열처리공학회 열처리공학회지 열처리공학회지 제17권 제4호
발행연도
2004.1
수록면
236 - 240 (5page)

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Effect of plasma power on PECVD process were investigated in this study. TiN and TiCN films were deposited on nitrided STD11 steel with 600W, 1,200W and 1,600W plasma power. As the plasma power was increased, the preferred orientation was reinforced from (200) to (111) and the hardness of films was improved. The low plasma power was, however, effective for improving of adhesion force of films. Regarding above properties, TiN and TiCN films were deposited by gradient plasma power. It was possible to get high hardness as well as adhesion force through gradient plasma power.

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