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학술저널
저자정보
김가을 (Korea Institute Machinery Materials (KIMM)) 김현태 (Korea Institute Machinery Materials (KIMM)) 이승현 (Korea Institute Machinery Materials (KIMM)) 강유성 (Ajou University) 전용호 (Ajou University) 이문구 (Ajou University) 권신 (Korea Institute Machinery Materials (KIMM))
저널정보
한국생산제조학회 한국생산제조학회지 한국생산제조학회지 Vol.30 No.4
발행연도
2021.8
수록면
316 - 322 (7page)
DOI
10.7735/ksmte.2021.30.4.316

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이 논문의 연구 히스토리 (4)

2022

머신 러닝을 적용한 대면적 롤투롤 균일 가압 시스템에 관한 연구
김가을 2022.01 학위논문

2021

롤투롤 나노 임프린트 시스템 균일 가압 모듈 개발
김가을 ,  김현태 ,  이승현 외 4명 한국생산제조학회지 2021.08 학술저널

2020

대면적 임프린트를 위한 롤투롤 시스템의 균일 가압 제어
김가을 ,  권신 ,  김현태 외 2명 한국기계가공학회 춘추계학술대회 논문집 2020.06 학술대회자료

2019

롤투롤 대면적 나노임프린트를 위한 균일 가압 메커니즘에 관한 연구
김가을 ,  전용호 ,  이문구 외 6명 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 2019.05 학술대회자료

초록· 키워드

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It is difficult to use roll-to-roll (R2R) substrate transfer and pressing process to secure the productivity of the nanoimprint lithography (NIL) process based on the contact pressing mechanism R2R NIL patterning with a precise level of uniform pressure in the imprinting area. In conventional pressing, the precision of the imprint process is limited by bending deformation of the pressing roller, processing errors of roundness and straightness, and roller alignment errors. Thus, a new type of force point adjustable pressing roller (FPAP) module to minimize bending deformation of the pressing roller and an air cushion pressing roller (ACP) module to improve unevenness caused by roller deformation, roller geometrical errors were developed. The performance of the new uniform pressing module was experimentally verified: pressure uniformity at the imprinting contact surface was ±30% for the conventional pressing module compared to ±7% for the FPAP module. The ACP module improved this value to ±3.5%.
#Roll-to-roll #Nano-imprint #Roll pressing #Uniform pressing

목차

ABSTRACT
1. 롤투롤 나노 임프린트 리소그래피
2. 균일 가압 모듈 개발
3. 실험
4. 결론
References

참고문헌 (13)

참고문헌 신청
조영태 / 2013 / 롤러 가압 임프린트 공정에서 잔류막 두께 예측에 관한 연구 / 한국기계가공학회지 12(1):104~109 dbpia Michael D. Austin / 2004 / Fabrication of 5nm linewidth and 14nm pitch features by nanoimprint lithography / Applied Physics Letters 84(26):5299~5301 Crossref Wei Wu / 2008 / Sub-10 nm Nanoimprint Lithography by Wafer Bowing / Nano Letters 8(11):3865~3869 Crossref McMackin, I. / 2004 / Step and Repeat UV Nanoimprint Lithography Tools and Processes / Emerging Litho. Technol VIII(5374):222~231 Crossref Se Hyun Ahn / 2009 / Large-Area Roll-to-Roll and Roll-to-Plate Nanoimprint Lithography: A Step toward High-Throughput Application of Continuous Nanoimprinting / ACS Nano 3(8):2304~2310 Crossref

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