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이상렬 (가천대학교) 박소연 (이화여자대학교 의과대학 산부인과학교실) 양가영 (이화여대 산부인과학교실) 정경아 (이화의대 산부인과교실) 김영주 (이화여자대학교) 정혜원 (이화여자대학교)
저널정보
한국전기전자재료학회 Transactions on Electrical and Electronic Materials Transactions on Electrical and Electronic Materials 제21권 제6호
발행연도
2020.1
수록면
599 - 605 (7page)

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Si?In?Zn?O (SIZO)/Ag/Si?In?Zn?O (SIZO) (totally, SAS) multilayered oxide?metal?oxide (OMO) structure has been fabricated and analyzed. Amorphous oxide semiconductor has been uniquely adopted in this study. Diff erent from a metal?dielectric composite multilayer system, carrier diff usion occurred at the semiconductor?metal interface resulting in a complicated electric field distribution in a semiconductor?metal composite multilayer. This phenomenon causes the distortion of bulk permittivity function, therefore mismatching could be found which is confi rmed by epsilon-zero-points of samples with diff erent volume fi lling fraction. Carrier concentration distribution in a SAS was carefully analyzed by introducing Poisson’s electrostatic equation. Further discussion on the distortion of bulk permittivity function in SAS multilayers has been conducted and, carrier diff usion model was introduced to analyze the redistribution of electric field. Carrier concentration dependency of frequency of transmitted light has been investigated and established with a correction parameter related with the total thickness of the samples. It is expected that this research would not only provide a solution to correct the distorted bulk permittivity function of semiconductor?metal multilayer system, but also reveal a potentially promising method for designing a carrier concentration controllable meta-material, such as low-emissivity coating, or low-loss plasmonic for an optical integrated circuits.

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