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학술저널
저자정보
변동욱 (Kwangwoon University) 이현진 (Kwangwoon University) 이희재 (Kwangwoon University) 이건희 (Kwangwoon University) 신명철 (Kwangwoon University) 구상모 (Kwangwoon University)
저널정보
한국전기전자학회 전기전자학회논문지 전기전자학회논문지 제26권 제2호
발행연도
2022.6
수록면
306 - 312 (7page)

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서로 다른 PN 비율과 금속화 어닐링 온도에 의해 장벽 높이가 다른 4H-SiC 병합 PiN Schottky(MPS) 다이오드의 전기적 특성과 심층 트랩을 조사했다. MPS 다이오드의 장벽 높이는 IV 및 CV 특성에서 얻었다. 전위장벽 높이가 낮아짐에 따라 누설 전류가 증가하여 10배의 전류가 발생하였다. 또한, 심층 트랩(Z<SUB>1/2</SUB> 및 RD<SUB>1/2</SUB>)은 4개의 MPS 다이오드에서 DLTS 측정을 통해 밝혀졌다. DLTS 결과를 기반으로, 트랩 에너지 준위는 낮은 장벽 높이와 함께 22~28%의 얕은 수준으로 확인되었다. 이는 쇼트키 장벽 높이에 대해 DLTS에 의해 결정된 결함 수준 및 농도의 의존성을 확인할 수 있다.

목차

Abstract
요약
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험 방법
Ⅲ. 결과 및 고찰
Ⅲ. 결론
References

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