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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 저널정보
- 한국전기전자재료학회 Transactions on Electrical and Electronic Materials Transactions on Electrical and Electronic Materials 제18권 제6호
- 발행연도
- 2017.12
- 수록면
- 341 - 344 (4page)
- DOI
- https://doi.org/10.4313/TEEM.2017.18.6.341
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Infrared (IR) filters were developed to implement integrated three-dimensional (3D) image sensors that are capable ofobtaining both color image and depth information at the same time. The combination of light filters applicable to the 3Dimage sensor is composed of a modified IR cut filter mounted on the objective lens module and on-chip filters such asIR pass filters and color filters. The IR cut filters were fabricated by inorganic SiO2/TiO2 multilayered thin-film depositionusing RF magnetron sputtering. On-chip IR pass filters were synthetized by dissolving various pigments and dyes in organicsolvents and by subsequent patterning with photolithography. The fabrication process of the filters is fairly compatible withthe complementary metal oxide semiconductor (CMOS) process. Thus, the IR cut filter and IR pass filter combined withconventional color filters are considered successfully applicable to 3D image sensors.
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S.K. Mendis / 1997 / CMOS active pixel image sensors for highly integrated imaging systems / IEEE Journal of Solid-State Circuits 32(2):187~197
David Stoppa / 2011 / A Range Image Sensor Based on 10-$\mu{\hbox {m}}$ Lock-In Pixels in 0.18-$\mu$m CMOS Imaging Technology / IEEE Journal of Solid-State Circuits 46(1):248~258
Xinrong Wang / 1998 / Helicon plasma deposition of a TiO2/SiO2 multilayer optical filter with graded refractive index profiles / Applied Physics Letters 72(25):3264~3266
S. Bauer / 2003 / Optical multilayers for ultra-narrow bandpass filters fabricated by PICVD / Thin Solid Films 442(1-2):189~193
D. Saygın Hinczewski / 2005 / Optical filters from SiO2 and TiO2 multi-layers using sol–gel spin coating method / Solar Energy Materials and Solar Cells 87(1-4):181~196
David Stoppa / 2011 / A Range Image Sensor Based on 10-$\mu{\hbox {m}}$ Lock-In Pixels in 0.18-$\mu$m CMOS Imaging Technology / IEEE Journal of Solid-State Circuits 46(1):248~258
Xinrong Wang / 1998 / Helicon plasma deposition of a TiO2/SiO2 multilayer optical filter with graded refractive index profiles / Applied Physics Letters 72(25):3264~3266
S. Bauer / 2003 / Optical multilayers for ultra-narrow bandpass filters fabricated by PICVD / Thin Solid Films 442(1-2):189~193
D. Saygın Hinczewski / 2005 / Optical filters from SiO2 and TiO2 multi-layers using sol–gel spin coating method / Solar Energy Materials and Solar Cells 87(1-4):181~196
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