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박세림 (광운대학교 전자재료공학과) 이태희 (광운대학교 전자재료공학과) 김희철 (광운대학교 전자재료공학과) 김민영 (광운대학교 전자재료공학과) 문수영 (광운대학교 전자재료공학과) 이희재 (광운대학교 전자재료공학과) 변동욱 (광운대학교 전자재료공학과) 이건희 (극동대학교) 구상모 (광운대학교)
저널정보
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제36권 제3호
발행연도
2023.5
수록면
298 - 302 (5page)

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In this paper, we discussed the effect of field plate dielectric materials such as silicon dioxide (SiO2), aluminum oxide (Al2O3), and hafnium oxide (HfO2) on the breakdown characteristics of β-Ga2O3 Schottky barrier diodes (SBDs). The breakdown voltage (BV) of the SBDs with a field plate was higher than that of SBDs without a field plate. The higher dielectric constant of HfO2 contributed to the superior reduction in electric field concentration at the Schottky junction edge from 5.4 to 2.4 MV/cm. The SBDs with HfO2 field plate showed the highest BV of 720 V, and constant specific on-resistance (Ron,sp) of 5.6 mΩ·cm2, resulting in the highest Baliga’s figure-of-merit (BFOM) of 92.0 MW/cm2. We also investigated the effect of dielectric thickness and field plate length on BV.

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