이트리아 박막 조도 개선 공정을 위한 화학적 기계적 연마 슬러리 최적화

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저자정보: 유다영 (성균관대학교) 이재원 (성균관대학교) 조성모 (KOMICO) 박채린 (성균관대학교) 박호준 (KOMICO) 이연주 (KOMICO) 김현식 (서울시립대학교) 김태성 (성균관대학교)

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#화학적 기계적 연마(CMP) #이트륨 옥사이드(Y₂O₃) #플라즈마 식각(Plasma etching)

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