Photoresist Technology

김진백

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Exposure process equipment connection study of Cell method for TSP process

An-Ho Lee ,  Yi-Kweon Ji ,  Woo-Young Lee

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2012 .10

Analysis of Chemical and Morphological Changes of Phenol Formaldehyde-based Photoresist Surface caused by O2 Plasma

D. A. Shutov ,  Seung-Youl Kang ,  Kyu-Ha Baek 외 3명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2007 .01

Development of high refractive index polymer materials and refractive index control through oxidation reactions

장재용 ,  도정윤

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2014 .04

감광제의 노광변수 추출을 위한 효율적인 전산모사기

김상곤 ,  변성환 ,  정연운 외 7명

대한전자공학회 학술대회

1998 .11

감광제의 노광변수 추출을 위한 효율적인 전산모사기 ( Effective Lithography Simulator for Extraction of Photoresist Exposure Parameter )

김상곤 ,  변성환 ,  정연운 외 7명

대한전자공학회 학술대회

1998 .11

Chemical Sensing Based on Refractive Index

진성호 ,  제갈영순 ,  김재호 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .04

정보기능용 고분자 ( Photoresist )

김진백

고분자 과학과 기술

1990 .11

Refractive indices of DNA-based solutions

펄슨 비욘 ,  정우현 ,  박지영 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2013 .04

PR(Photoresist) 분사량 측정에 관한 연구

신동원 ,  이성영 ,  김상식 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

노광장비 내 유동특성 규명을 통한 입자제어

박경우 ,  박차식 ,  심성태

대한설비공학회 학술발표대회논문집

2011 .07

Fabrication of Multilevel layers for Optical Printed Circuit Board by Modified Two-step Photolithography

Han-Hyoung Kim ,  Seung-Kook Yang ,  Sang-Hyun Sin 외 11명

ICEIC : International Conference on Electronics, Informations and Communications

2008 .06

Using GIS in Noise exposure analysis

Ha ,  dy Stapelfeldt ,  And 외 1명

한국소음진동공학회 국제학술발표논문집

2003 .08

Photoresists for Interface and Thin Layer Imaging Processes

김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2011 .04

한국인의 직업별 24시간 ELF 노출자계 현황

양광호 ,  주문노 ,  명성호

대한전기학회 학술대회 논문집

2010 .07

Formation of Black Matrix Pattern by using Black Photoresist

Cho ,  Yoon-Lae ,  Kim 외 7명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2002 .01

Negative Thick Photoresist를 이용한 100㎛ 높이의 금속 구조물의 제작에 관한 연구

장현기 ,  김용권

대한전기학회 학술대회 논문집

1998 .07

Poly[BMA-co-(COPS-1)] particles with high refractive index

추헌승 ,  이기창 ,  남상용

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2013 .04

A Novel 193 nm Photoresist Containing Silicon Compound

손민석 ,  강영종 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .04