Ti-실리사이드 형성에 관한 연구 ( A Study on the Ti-Silicide Formation )

김학균 ,  주승기

대한전자공학회 학술대회

1987 .07

급속열처리에 의한 Ti-실리사이드와 접합의 동시형성에 관한 연구 ( A Study on the Simultaneous Formation of a Ti-Silicide and a Junction by the RTA Process )

민경익 ,  주승기

전자공학회논문지-A

1991 .03

고속열확산에 의한 얕은 접합 형성과 Ti-실리사이드화 된 n+ -P 다이오드 특성분석 ( The formation of the Shallow Junction by Rapid Thermal Diffusion and characteristic Analysis for n+ -p Diode with Ti-silicide )

최도영 ,  이성욱 ,  주정규 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1993 .11

Thermal Instability of ( Ti , Co ) Silicides by High Temperature Annealing

엄우용 ,  장호정 ,  장지근 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Co 및 Co/Ti 이중막에 의해 형성된 Co-실리사이드의 열적 불안정성 ( Thermal Instability of Co-silicides formed by Co and Co/Ti Bilayer )

장지근 ,  엄우용 ,  신철상 외 1명

전자공학회논문지-A

1996 .11

Ti-실리사이트 형성에 관한 연구

김학균 ,  주승기

대한전기학회 학술대회 논문집

1987 .07

Co 단일막과 Co/Ti 이중막을 이용한 Co-실리사이드의 형성 연구

장지근 ,  엄우용 ,  장호정 외 2명

한국재료학회지

1996 .01

급속 열처리 장치에 의한 코발트 실리사이드 형성과 성장에 관한 연구 ( A Study on the Formation and Growth of Cobalt Silicide by Rapid Thermal Processor )

박종성 ,  박세근

대한전자공학회 학술대회

1990 .01

고속 열 확산에 의한 얕은 접합 형성과 Ti - 실리사이드화된 n - p 다이오드 특성 분석 ( The Formation of the Shallow Junction by RTD Characteristic Analysis for n - p Diode with Ti - silicide )

최도영 ,  이성욱 ,  주정규 외 3명

전자공학회논문지-A

1994 .08

Co/Ti/Si 계에서 고상반응에 의한 Cobalt Silicide 형성기구 고찰

이승헌 ,  배준철 ,  신동원 외 1명

한국재료학회지

1996 .01

Co / Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 P+ -N 극저접합의 형성 ( Formation of P-N Ultra Shallow Junction with The Co / Ti Bilayer Silicide Contact )

신철상 ,  엄우용 ,  장호정 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

Co/Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 p+ - n 극저접합의 형성 ( Formation of p+ - n Ultra Shallow Junction with Co/Ti Bilayer Silicide Contact )

장지근 ,  엄우용 ,  신철상 외 1명

전자공학회논문지-D

1998 .05

급속 열처리 장치를 이용한 타이타늄 실리사이드 형성 ( Formation of Titanium Silicide by Rapid Thermal Aneal System )

이용재 ,  윤용선 ,  김보우 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1987 .11

Composite Target으로 증착된 Ti-Silicide의 형성 ( The Formation of Ti-Silicide Deposited With Composite Target )

강성건 ,  송영식 ,  황유상 외 7명

대한전자공학회 학술대회

1991 .11

$Li_2$형$(Ai, Cr)_3$/Ti기 2상 금속간화합물의 소성거동

박정용 ,  오명훈 ,  위당문

한국재료학회지

1994 .01

Ti-실리사이드 전계방출소자의 제작 및 전기적 특성 평가

윤진모 ,  백동기 ,  임성규 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .06

Ti-실리사이드 전계방출소자의 제작 및 전기적 특성 평가 ( Fabrication and Emission Characteristics of the Ti-Silicided Field Emitter Arrays )

윤진모 ,  백동기 ,  임성규 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .07

급속 열처리공정 ( RTA ) 에 의한 a-Si / Ti / a-Si 다층구조의 TiSi2 형성에 관한 연구 ( Titanium Silicide Formation of the a-Si / Ti / a-Si Multilayer by Rapid Thermal Annealing )

윤형섭 ,  진영모 ,  강원구 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1987 .11

고농도 도핑된 Si 기판상에 Co/Ti 이중막 실리사이드 형성과 특성 연구

엄우용

전자공학회논문지-IE

2003 .12

Co/Ti(100)Si 이중층을 이용한 에피텍셜 Co 실리사이드의 형성

권영재 ,  이종무 ,  배대록 외 1명

한국재료학회지

1998 .01