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도핑한 산화막의 확산 특성 ( Diffusion Characteristics of Doped Oxides )
대한전자공학회 학술대회
1984 .01
도핑한 산화막의 확산 특성
대한전자공학회 학술대회
1984 .11
재산화된 질화 산화막의 전하 포획 특성 연구 ( A Study on the Charge Trapping Properties of ONO ( Oxide Nitride Oxide ) Dielectric Film )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
질화처리의 기초와 질화계처리
열처리공학회지
2008 .01
CVD 이용한 Doping 특성 평가
한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집
2010 .11
플라즈마 이온질화 공정온도에 따른 스테인리스강 질화층의 표면 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2012 .11
Wet 게이트 산화막과 Nitride 산화막 소자의 특성에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1999 .06
기억 소자 응용을 위한 재산화된 산화 질화막의 I-V 특성 ( I-V Characteristics of the Reoxided Nitrided Oxides for the Application of Memory Devices )
대한전자공학회 학술대회
1990 .01
기억 소자 응용을 위한 재산화된 산화 질화막의 C-V 특성 ( C-V Characteristics of the Reoxided Nitrided Oxides for the Application of Memory Devices )
대한전자공학회 학술대회
1990 .01
실리콘 산화막의 열적질화와 그 MOS특성에 미치는 영향
대한전자공학회 학술대회
1983 .01
Technical trend of nitriding Process and Its main applications
유공압건설기계학회 학술대회논문집
2012 .06
열처리 전후의 질화막에 대한 습식산화의 효과
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
이온 도핑 방법에 의한 실리콘 박막의 도핑 연구 ( A Study on Ion Shower Doping in Si Thin Film )
전자공학회논문지-A
1994 .05
이온질화에 있어 확산층 및 합성층의 생성속도 및 질소의 활성화 에너지 ( The Formation rate and Activation energy of Compound layer and diffusion layer in Ion-Nitriding )
대한기계학회 춘추학술대회
1984 .01
이온질화에 있어 확산층 및 합성층의 생성속도 및 질소의 활성화 에너지 ( The Formation Rate and Activation Energy of Diffusion Layer and Compound Layer in Ion - Nitriding )
대한기계학회 논문집
1984 .09
재산화 질화 산화막의 전하 생성과 항복에 대한 시간 의존성
한국정보통신학회논문지
1998 .09
질화실리콘막을 사용한 표면보호층 구조에 관한 연구 ( Passivation Layer Structures with a Silicon Nitride Film )
전자공학회지
1985 .11
고온 확산공정에 따른 산화막의 전기적 특성
전기학회논문지 C
2003 .10
포스트 플라즈마를 이용한 질화의 질화층 형성에 미치는 전처리의 영향에 대한 연구
열처리공학회지
2005 .01
플라즈마 질화 기술과 그 응용분야에 대한 소개
대한용접학회 특별강연 및 학술발표대회 개요집
2010 .11
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