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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2003.7
- 수록면
- 611 - 615 (5page)
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In this paper, a operation characteristics and analysis of the HB(half bridge) inverter for remote plasma system arc studied. the remote plasma system is cleaning system for the chemical vapor deposition (CVD) chamber in semiconductor processing. The remote plasma system is powered by the RF generator. The main power stage of the RF generator is used for the HB PWM inverter with an low pass filter in the secondary circuit of the transformer. The detailed mode analysis of HB inverter was described. The operation characteristics of Remote Plasma Source arc verified by simulation and experimental results.
목차
ABSTRACT
1.서론
2.하프 브리지 인버터
3.모의 실험 및 실험 결과
4.결론
참고문헌
참고문헌 (0)
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