Remote Plasma Enhanced - Ultrahigh Vacuum Chemical Vapor Deposition(RPE - UHVCVD) 법을 이용한 GaN의 저온 이단계 성장에서 핵생성층의 GaN 에피층에 미치는 영향

김경국; 김동준; 백종식; 조제희; 성태연; 김효근; 박성주

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저자정보: 김경국 김동준 백종식 조제희 성태연 김효근 박성주

저널정보: 한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 한국진공학회 제13회 학술발표회논문개요집

발행연도: 1997.7

수록면: 23 - 23 (1page)

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1998

Remote Plasma Enhanced - Ultrahigh Vacuum Chemical Vapor Deposition(RPE - UHVCVD)법을 이용한 GaN의 저온 성장에 관한 연구

김경국 , 김동준 , 백종식 외 2명 한국진공학회 학술발표회초록집 1998.02 학술대회자료

1997

Remote Plasma Enhanced - Ultrahigh Vacuum Chemical Vapor Deposition(RPE - UHVCVD) 법을 이용한 GaN의 저온 이단계 성장에서 핵생성층의 GaN 에피층에 미치는 영향

김경국 , 김동준 , 백종식 외 4명 한국진공학회 학술발표회초록집 1997.07 학술대회자료

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소속기관 한국진공학회

주요연구분야 자연과학 > 물리학

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조제희

소속기관 한국진공학회

주요연구분야 자연과학 > 물리학

논문수 1 이용수 7

성태연

소속기관 고려대학교

주요연구분야 자연과학 > 물리학 공학 > 기계공학 > 기계공학 일반

논문수 27 이용수 707

김효근

소속기관 한국진공학회

주요연구분야 자연과학 > 물리학

논문수 6 이용수 63

박성주

소속기관 포항가속기연구소

주요연구분야 자연과학 > 물리학

논문수 75 이용수 1,549

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