Electrical properties of HfO_xN_y thin films deposited by PECVD

J.-H. Pa ,  k ,  J.-S. Hyun 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2006 .02

Investigate Electronic Property of N-doped Plasma-Polymer Thin Films for Applied Biosensors

서현진 ,  황기환 ,  남상훈 외 5명

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2013 .08

Research on the Multi-electrode Plasma Discharge for the Large Area PECVD Processing

Yun-Seong Lee ,  Dae-Ho You ,  You-Bin Seol

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2012 .02

Photoluminescence chracteristics of SiN_x thin film deposited by PECVD at low temperature

Kyungsu Lee ,  Eunkyeom Kim ,  Kyongmin Kim 외 9명

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2008 .02

Effect of Poat Annealing of Amorphous SiC Thin Films using by PECVD

홍성의 ,  이해권 ,  백문철

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1998 .07

Effect of plasma properties on characteristics of silicon nitride film deposited by PECVD process at low temperature

Jeon G. HAN ,  Jun S. LEE ,  Bibhuti B. SAHU 외 3명

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2016 .08

A Study on the Characteristics of Ammonia Doped Plasma Polymer Thin Film with a Controlled Plasma Power

서현진 ,  황기환 ,  주동우 외 6명

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2014 .02

TiN 박막제조를 위한 PECVD 공정의 해석적 연구

안경한 ,  설용건 ,  김선효

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1992 .07

Plasma parameters of the low dielectric constant SiOC(-H) thin films during the PECVD process

An Soo Jung ,  Chang Young Kim ,  R. Navamathavan 외 1명

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2008 .02

Vertically Standing Graphene on Glass Substrate by PECVD

Yifei Ma ,  Wontae Hwang ,  Haegyu Jang 외 1명

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2014 .02

Low-Temperature Synthesis of Wafer Scale WS₂ by PECVD

Kanade Vinit ,  김형우 ,  박근상 외 1명

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2019 .02

PECVD로 증착한 Ta₂O5 박막의 전기적 특성 Electrical Characterization of Ta₂O5 Thin Films Deposited by PECVD.

김선우 ,  김형준

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1992 .07

A study for the hybrid low-k polymer thin films by PECVD and their electrical and mechanical properties

배인섭 ,  조상진 ,  부진효

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2007 .08

PECVD Synthesis of WS₂ for Hydrogen Evolution Catalysis

Kanade Vinit ,  Hyeong-U Kim ,  Seokjun Hong 외 1명

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2020 .02

Structural Evolution and Electrical Properties of Highly Active Plasma Process on 4H-SiC

Dae-Kyoung Kim ,  Mann-Ho Cho

Applied Science and Convergence Technology

2017 .09

PECVD 공정에 의해 제작된 SION박막 특성 분석

정재욱 ,  추성중 ,  박정호

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2011 .02

Prevention of P-i Interface Contamination Using In-situ Plasma Process in Single-chamber VHF-PECVD Process for a-Si:H Solar Cells

Seung-Hee Han ,  Jun-Hong Jeon ,  Jin-Young Choi 외 2명

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2011 .02

Stabilization of Real-time Thickness monitoring system in PECVD chamber

이철 ,  황혜주 ,  박상호 외 6명

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2017 .08

Low Temperature PECVD process for SiNx/Organic Multilayer Thin Film Encapsulation

Hyung June Ahn ,  Sang Heon Yong ,  Sun Jung Kim 외 3명

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2017 .02

Realization of efficient barrier performance of a silicon nitride film simply via plasma chemistry

이준석 ,  Yong Yi Yin ,  B. B. Sahu 외 1명

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2017 .02