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한국전자파학회 한국전자파학회논문지 韓國電磁波學會論文誌 第20卷 第1號
발행연도
2009.1
수록면
1 - 11 (11page)

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본 논문에서는 플라즈마 응용을 위한 고효율 및 고안정성을 가지는 RF 발생기용 1 ㎾급 전력증폭기를 설계 및 제작하였다. 전력증폭기는 푸쉬풀 MOSFET 1개와 고전류 구동 IC로 구성하였으며, E급 증폭기의 구조를 사용함으로써 효율을 개선하였다. 플라즈마 응용에 적합하도록 전력증폭기에 선택적 감쇠기를 사용하여 3가지 모드로 동작하게 함으로써 효율과 안정성을 선택적으로 고려할 수 있도록 하였다. 초기 방전 구간의 불안정성을 개선하기 위하여 RF 발생기의 출력 안정영역을 선택적 감쇠기를 사용하여 전압정재파비(VSWR)를 3.8:1미만보다 개선된 4.5:1미만으로 확장하였다. 또한 기존에 적용되는 증폭기에 비하여 크기를 30 % 줄였으며, 주파수 13.56 ㎒, 출력 1 ㎾에서 효율 80 %를 얻으므로 기존에 비하여 효율을 약 13 % 개선하였다.
#High Efficiency #Class E #High Stability #Switchable Damper #Plasma Application

목차

요약
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. RF 발생기용 전력증폭기
Ⅲ. 설계 및 시뮬레이션
Ⅳ. 제작 및 측정결과
Ⅴ. 결론
참고문헌

참고문헌 (7)

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1. [학술지(정기간행물)] - Haruhiko Abe / 2008 / Developments of plasma etching technology for fabricating semiconductor devices / Japanese J. Applied Physics 47 (3) : 1435 ~ 1455 google schola 2. [학술대회논문] - V. Brouk / 2004 / Stabilizing RF generator and plasma interactions / 2004 Society of Vacuum Coaters 47th Annual Technical Conference Proceedings : 24 ~ 29 google schola 3. [기타자료] - A. M. Marlton / 1997 / Apparatus for Plasma Tools, US Patent #5,654,679 google schola 4. [기타자료] - D. K. Coultas / 1999 / Stable Matching Networks for Plasma Tools, US Patent # 5,866,985 google schola 5. [기타자료] - A. M. Howald / 2007 / Apparatus and Methods for Improving the Stability of RF Power Delivery to a Plasma Load, US Patent # 6,838,832 google schola

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