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이용수
Abstract
1. Introduction
2. System geometry and description
3. Experimental procedure
4. Results and discussion
5. Summary
Acknowledgements
References
Biography
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The Effect of Catalysts on the Growth Characteristic of Carbon Nanotubes
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2002 .01
RF-PECVD법에 의한 Ti-Si-N 박막의 증착거동
한국표면공학회지
2002 .08
The Relation between Emission Properties and Growth of Carbon nanotubes with dc bias by RF Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2002 .01
플라즈마 기상 화학 증착법을 이용한 탄소나노튜브의 선택적 수직성장 기술
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
2007 .06
플라즈마 화학 기상 증착법을 이용한 탄소나노튜브의 성장 분석 및 전계방출 특성
전기전자재료학회논문지
2003 .01
RF Plasma-assisted Chemical Vapor Deposition of Diamond-like and Graphitic Carbon
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1989 .11
PECVD(Plasma enhanced chemical vapor deposition)방법에 의한 a-C:H 박막의 열처리에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
Synthesis of Carbon Nanotubes by Using Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition at Low Temperature
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2007 .01
가스 유량과 RF Power에 따라 PECVD 방법으로 증착된 DLC 박막의 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2018 .06
The development of complex electrode for fuel cell using CNT
한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집
2010 .06
rf 플라즈마 화학기상증착기의 제작 및 특성
한국표면공학회지
2000 .04
In-situ rf treatment of multiwall carbon nanotube with various post techniques for enhanced field emission
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2003 .01
열화학기상증착법에 의해 성장된 탄소나노튜브의 기하학적 구조에 있어 촉매 두께가 미치는 영향
대한기계학회 춘추학술대회
2009 .05
플라즈마 화학 기상 증착법에서 DC bias가 인가된 탄소나노튜브의 수직성장과 전계방출 특성
전기전자재료학회논문지
2002 .01
Deposition and in-situ Plasma Doping of Plasma-Polymerized Thiophene Films Using PECVD
Macromolecular Research
2009 .01
전송선로를 이용한 플라즈마 전력 전달 연구
반도체디스플레이기술학회지
2016 .01
촉매처리 방법에 따른 탄소 나노튜브의 전계방출 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
2006 .10
RF 플라즈마를 이용한 다이아몬드 박막의 제조
한국표면공학회지
1998 .06
RF / IF Front-end Design
대한전자공학회 워크샵
1997 .01
다양한 전기탐침을 이용한 RF 플라즈마 전자온도의 측정
대한전기학회 학술대회 논문집
2006 .07
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