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이용수
Abstract
1. 서론
2. 본론
3. 결론
[참고문헌]
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2012 .04
T-형 패턴형성을 위한 포토레지스트 특성
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1994 .01
펨토초 레이저를 이용한 미세 PR 패터닝
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
2009 .06
반도체 산업 기술 및 포토레지스트의 기술 동향
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2015 .12
포토레지스트의 동향과 전망
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2002 .10
Maskless 노광공정을 위한 LDI(Laser Direct Imaging) 시스템 개발 및 단일 레이저 빔 에너지 분포 분석
한국생산제조학회지
2010 .12
Photoresist Technology
대한전자공학회 워크샵
1989 .01
산소 플라즈마의 특성과 포토레지스트 제거에의 응용 ( Characteristics of the Oxygen Plasma and Its Application to Photoresist Stripping )
전자공학회논문지
1987 .01
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2016 .04
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대한전자공학회 학술대회
1995 .07
집속 레이저 빔에 의한 PDP 격벽의 마스크레스 식각
대한전기학회 학술대회 논문집
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Black matrix용 포토레지스트의 제조에 관한 연구
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2010 .10
PCB 노광을 위한 DMD를 이용한 마스크리스 리소그래피 기술
기계저널
2010 .06
Novel Maskless Bumping for 3D Integration
[ETRI] ETRI Journal
2010 .04
Dynamic micropatterning of cells on nanostructured surfaces using a cellfriendly photoresist
대한기계학회 춘추학술대회
2016 .04
Maskless 방식을 이용한 PCB 생산시스템의 진동 해석
한국소음진동공학회 학술대회논문집
2009 .11
Laser-Induced Maskless wet Etching of Silicon Wafer
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
환경친화적인 초임계 이산화 탄소 공정을 이용한 포토레지스트의 합성
폴리머
2004 .11
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