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이용수
Abstract
1. 서론
2. 본론
3. 결론
감사의 글
[참고문헌]
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1999 .05
Laser CVD에 의한 poly-Si 막의 퇴적 및 Laser etching 특성
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1996 .07
$Ar^{+}$ 주입 Si 단결정의 미세구조
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
The Characteristics of Poly-Si Films Deposited by Laser CVD and Laser Etching
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1997 .01
플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )
전자공학회논문지
1987 .01
Laser Annealed Poly-Si TFT Using Ion Doped Layer
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
N2H2-H2O용액의 { 100 } Si에 대한 최적식각조건의 설정과 전기화학적 식각에의 응용 ( Establishment of Optimal { 100 } Si Etching Condition for N2H4-H2O Solutions and Application to Electrochemical Etching )
전자공학회논문지
1989 .11
E-ION
Lubricants Symposium
2004 .09
플라즈마 식각 방법에 의한 단결성 실리콘의 Two-Step 식각 특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-si by the Plasma Etching Technique )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
Low-angle forward-reflected 중성빔 식각장치를 이용한 Si 식각에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2005 .11
단결정 Si 기판의 결정 의존성 식각에 의한 Knife형 Si tip array의 제조
대한전기학회 학술대회 논문집
1995 .07
LASER
전자공학회지
1969 .11
Bosch 공정에서 Si 식각속도와 식각프로파일에 대한 Ar 첨가의 영향
화학공학
2013 .01
Fabrication of the Laser Annealed Poly-Si TFT with a Vertical a-Si : H off-Set Layer
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
Characteristics of Counter-Doping using ph3 and B2H6 ion Source Gases in Non-Mass Separated ion Doping on Excimer Laser Annealed Poly-Si Film
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
Reverse annealing of $P^+/B^+$ ion shower doped poly-Si
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2006 .01
Effect of $O_2$ or $NF_3$ plasma treatments on contaminated silicon surface due to $CHF_{3}/C_{2}F_{6}$ reactive ion etching
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
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