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대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 2007년도 하계종합학술대회 논문집Ⅱ(반도체/컴퓨터/시스템 및 제어) 제30권 제1호
발행연도
2007.7
수록면
869 - 870 (2page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2007

HfO₂ MIM capacitor의 하부 금속에 따른 전기적 특성 변화
도승우 ,  배군호 ,  이재성 외 1명 대한전자공학회 학술대회 2007.07 학술대회자료
HfO₂ MIM capacitor의 하부 금속에 따른 전기적 특성 변화
도승우 ,  배군호 ,  이재성 외 1명 대한전자공학회 학술대회 2007.07 학술대회자료

초록· 키워드

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In this study, on the various metal electrodes a high-k dielectrics, HfO₂, thin film was deposited by reactive RF-magnetron sputtering method for the application of Metal-Insulator-Metal (MIM) capacitors. The metals, such as RuO₂, Pt, W, TiN and poly-Si were used as a bott^_@span style=color:#999999 ^_# ... ^_@/span^_#^_@a href=javascript:; onclick=onClickReadNode('NODE06320975');fn_statistics('Z354','null','null'); style='color:#999999;font-size:14px;text-decoration:underline;' ^_#전체 초록 보기^_@/a^_#

목차

Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험방법
Ⅲ. 결과 및 고찰
Ⅳ. 결론
참고문헌

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